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卷對卷型等離子清洗機(jī) 自動化等離子清洗設(shè)備 RTR100L-W500

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱昆山普樂斯電子科技有限公司
品牌
型號
所在地蘇州市
廠商性質(zhì)其他
更新時間2025/7/30 15:26:50
訪問次數(shù)39

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公司介紹主營產(chǎn)品

昆山普樂斯電子科技有限公司成立于2010年，是一家集等離子表面處理技術(shù)研發(fā)、制造、銷售和推廣于一體的高科技公司。作為一家專業(yè)的等離子表面處理應(yīng)用技術(shù)方案公司，普樂斯PLAUX致力于整合等離子表面處理技術(shù)、自動化以及人工智能等各要素，注重客戶體驗(yàn)與互動，積極參與材料研發(fā)、加工和器件制造工藝的創(chuàng)新。普樂斯PLAUX由多名長期從事等離子表面處理技術(shù)應(yīng)用研究，設(shè)備制造和銷售的業(yè)內(nèi)人士創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)軔于德國，同時充分借鑒歐美的技術(shù)，并通過與國內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能的低壓真空等離子表面處理系統(tǒng)、常壓大氣等離子清洗機(jī)和電暈機(jī)等。應(yīng)用領(lǐng)域涉及航天、電子、光電、汽車、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。普樂斯PLAUX成立至今已為TE、HUAWEI、Amphenol、SUMITOMO、SUNNY、BYD、WLCSP等眾多企業(yè)、大學(xué)院校、研究機(jī)構(gòu)提供過各種等離子表面處理設(shè)備和解決方案，并專注于發(fā)展面向未來新材料市場的應(yīng)用技術(shù)，助力用戶開發(fā)出激動人心的新工藝！

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真空泵排氣閥

產(chǎn)品簡介在線詢價

產(chǎn)品描述卷對卷型等離子清洗機(jī)主要解決塑膠薄膜、金屬薄膜等水平卷式連續(xù)處理可繞折的卷材

卷對卷型等離子清洗機(jī) 自動化等離子清洗設(shè)備 RTR100L-W500 產(chǎn)品信息

工作原理

在真空狀態(tài)下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，等離子清洗設(shè)備利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體，然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。如圖所示：

產(chǎn)品特點(diǎn)

真空室自動開關(guān)，一鍵式啟停，操作簡單方便

真空室內(nèi)置張力控制系統(tǒng)，穩(wěn)定材料漲縮，使處理更加平穩(wěn)

高性能等離子發(fā)生器，激發(fā)更為穩(wěn)定之等離子體

水平電極結(jié)構(gòu)設(shè)計，更適合柔性材料

采用中通水冷電極，真正實(shí)現(xiàn)過程溫度控制，均衡均一

的卷曲設(shè)計，解決卷式材料穿料問題，牽引材料更便捷

精確速度控制，精準(zhǔn)控制速度的同時，實(shí)現(xiàn)恒張力恒速度

應(yīng)用領(lǐng)域

柔性材料的表面清洗、表面活化、表面粗表面刻蝕等

塑膠薄膜、金屬薄膜等水平卷式連續(xù)處理可繞折的卷材

產(chǎn)品參數(shù)

型號		RTR100L-W500
控制系統(tǒng)	控制方式	全自動控制（自動/手動切換）
		PLC（標(biāo)配）/PC（可選）
	操作系統(tǒng)	Windows 10
	觸摸屏	7寸
整機(jī)規(guī)格	尺寸	W6900×D1650×H1150mm
腔體	處理寬幅	<520mm
	材質(zhì)	鋁合金（標(biāo)配）/不銹鋼（可選），腔體3段式
冰水機(jī)	通路	用于電源、電極、真空泵浦的冷卻
	供電	AC380V、3PH、50/60Hz、3KW
蝕刻能效	速率	≥0.5µm/Min
	均勻性	≥90%
真空計	薄膜硅電容耐腐蝕	1個，0-10Torr
流量計	MFC質(zhì)量流量控制器	4個，量程0-2000ml/min
真空泵	干泵機(jī)組（螺桿泵+羅茨泵）	1套，120m³/h+1800 m³/h；極限真空值≤50mTorr
發(fā)生器	中頻	40KHz，20KW
溫度控制系統(tǒng)	過程溫度控制	30-150℃恒定可控
張力控制系統(tǒng)	數(shù)顯張力	-
其它	工藝氣體：14MPa減壓至0.3MPa，O₂=9.99%;Ar=99.99%;N₂=99.99%;CF₄=99.999% 氣體壓力：0.2MPa≤氣源≤1MPa；氣源壓力：0.3-0.8MPa；氣源純度：無油無水干燥氣體；工作環(huán)境溫度：≤30℃；凍水流量：5 SLM；干燥Air/N₂流量：17 SLM